キオクシアとサンディスクコーポレーションは、日本国内で2032年までに総額約5兆円（310億米ドル超）の投資を計画している。四日市工場と北上工場で継続的にフラッシュメモリなどの生産設備の構築や関連するインフラ整備を進め、技術の強化を目指す。

　両社はこれまでの25年間で、日本国内で約9兆円（500億米ドル超）の設備投資を実施してきた。今後の投資について両社は「高市政権が掲げる経済政策目標などの優先課題に沿ったものであり、先端半導体の製造能力の拡大を通じて、戦略的な重要分野を支援する」としている。

　キオクシアは、3次元フラッシュメモリ「BiCS FLASH」の生産能力の増強に向け、北上工場（岩手県北上市）第3製造棟（K3棟）の建設に向けた土地の整備などを開始した。K3棟は第2製造棟（K2棟）の南側の土地に建設し、2029年度中の稼働開始を目指す。

　K3棟の建設時期や生産設備への投資など詳細計画は、市場動向を踏まえて決定する。K3棟への投資については、政府からの支援を前提としている。